快科技4月10日音讯,据媒体报导,三星电子现已建立1nm工艺研制团队,开发其下一代1nm工艺节点,方针是在2029年完成量产。
报导称,三星电子半导体研究所现已开端着手研制1nm工艺,部分曾参加2nm工艺研制的人员被抽调至该团队。
三星对1nm工艺寄予厚望,期望借此在高端芯片商场获得领先地位。
1nm工艺被三星称为“愿望中的半导体工艺”,其研制需求引进全新的技能概念和高数值孔径极紫外(High-NA EUV)设备,现在三星没有清晰是否已订货这些先进设备。
三星的这一方案是为了在与台积电的竞赛中完成“技能翻盘”,台积电在先进制程方面一向处于领先地位,其2nm工艺估计将于2026年下半年量产,而1nm工艺也在开发中。
相比之下,三星的2nm工艺良率仍低于台积电,三星的1.4nm工艺估计将于2027年量产。
IT之家 4 月 9 日音讯,依据首尔经济日报报导,三星电子开端研制 1.0nm 晶圆代工工艺,以图在与台积电的竞赛中完成“技能翻盘”。▲ 三星、台积电猜测道路图,图源首尔经济日报依据该日报报导,三星...