音讯称三星1nm工艺研制发动，估计2029年后量产
IT之家 4 月 9 日音讯，依据首尔经济日报报导，三星电子开端研制 1.0nm 晶圆代工工艺，以图在与台积电的竞赛中完成“技能翻盘”。
▲ 三星、台积电猜测道路图，图源首尔经济日报
依据该日报报导，三星电子半导体研究所近来正式着手研制 1.0nm 工艺，部分曾参加 2nm 等顶级制程的研制人员被抽调，组建了专项项目团队。在现在三星揭露的晶圆代工工艺道路图中，方案于 2027 年量产的 1.4nm 工艺为现在最顶级的工艺。
依据该日报所述，1nm 工艺需求打破现有规划结构，引进新技能概念，以及引进高数值孔径极紫外（High-NA EUV）曝光设备等下一代设备。三星估计，量产时刻将在 2029 年之后。
现在，三星在量产中的 3nm 工艺，以及估计在本年量产的 2nm 工艺，首尔经济日报以为技能上仍落后于台积电，尤其是 2nm 工艺方面，台积电的良率已打破 60%，存在明显距离。因而，三星对 1nm 工艺寄予厚望，三星会长李在镕上月向高管们着重要“连续注重技能的传统”，并表明“以史无前例的技能引领未来”。
依据IT之家此前征引韩媒 The Bell 报导，三星现在最新的 2nm SF2 工艺初始良率“高于预期”，搭载该工艺的 Exynos 2600 芯片试产良率为 30%。
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